Masalah yang timbul dari penggunaan deep-ultraviolet lithography adalah semakin kecil panjang gelombang cahaya, cahaya yang ditransfer tidak sampai ke silikon sehingga tak ada pola sirkuit yang terbentuk. Maka dari itu, lahirlah teknologi Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL).

Program studi Fisika, Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam ITB (FMIPA ITB) menyelenggarakan acara ITB Physics Talk yang mengusung topik tentang litografi pada Jumat (26/8/2022). Pada seminar yang diselenggarakan secara hybrid ini, program studi Fisika ITB mengundang Supply Chain Defectivity and Cleanliness Expert dari ASML University of Groningen, Syarif Riyadi yang membawakan topik “EUV Lithography: An Almost Impossible Engineering Challenge”.

Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) adalah teknologi litografi optik yang digunakan pada stepper yaitu mesin yang membuat sirkuit terpadu untuk komputer dan perangkat elektronik lainnya. Teknologi ini menggunakan rentang panjang gelombang ultraviolet ekstrem (EUV). “Proses litografi EUV yang lengkap menggunakan mesin yang sangat kompleks dan melibatkan subjek multidisiplin, dari fenomena fisik eksotis yang sederhana hingga kompleks,” terang Syarif.

Syarif juga menjelaskan bahwa pengembangan teknologi EUVL ini akan menjadi hal yang sangat menjanjikan karena dalam jangka waktu 10 tahun, angka penjualan microchip naik hingga 100 miliar US Dollar, dari 300 miliar US Dollar pada tahun 2007 menjadi 400 miliar US Dollar pada tahun 2017.

Maka dari itu, melalui acara ini Syarif memperkenalkan ASML sebagai salah satu perusahaan yang menjadi pionir dalam penciptaan inovasi dan implementasi dari teknologi Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL). ASML adalah sebuah perusahaan multinasional asal Belanda yang fokus mengembangkan dan memproduksi sistem fotolitografi. ASML saat ini merupakan pemasok sistem fotolitografi terbesar, terutama untuk industri semikonduktor. Perusahaan ini memproduksi mesin yang digunakan untuk memproduksi sirkuit terintegrasi.

“ASML memproduksi mesin litografi ultraviolet ekstrem yang menghasilkan cahaya dengan panjang gelombang sebesar 13,3–13,7 nm. Sebuah laser berenergi tinggi difokuskan pada tetesan timah cair mikroskopis untuk memproduksi plasma, yang mengeluarkan cahaya ultraviolet ekstrem.

Syarif menambahkan, “Teknologi yang diproduksi oleh ASML digunakan untuk memproduksi chip komputer. Pada mesin tersebut, pola dicitrakan secara optis ke wafer silikon yang dilapisi dengan film sensitif cahaya (fotoresis),” terangnya. Berbagai perusahaan teknologi raksasa juga telah bekerja sama dengan ASML. Mulai dari Samsung, Intel, Sony, hingga KIOXIA. Kini, target terdekat ASML adalah menciptakan teknologi High-NA EUV.

Reporter: Yoel Enrico Meiliano (Teknik Pangan, 2020)

Foto: freepik.com